Mask Aligner / Lithography System
UX-4 Serie - Vollfeld-Projektion
Dieser Projektionsaligner verwendet die einzigartige Großfeldprojektionslinsentechnologie von Ushio sowie eine Lichtquelle und andere optische Technologien, die über viele Jahre hinweg entwickelt wurden. Er ermöglicht die Belichtung von bis zu 8-Zoll-Wafern in einem Durchgang, ohne die Maske zu berühren. Die große Schärfentiefe ermöglicht die korrekte Belichtung von nicht flachen Wafern und somit eine höhere Produktivität und Ausbeute, was mit einem Proximity-Aligner nicht möglich ist.
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